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X射線熒光分析儀(XRF)基本原理與核心公式解析

更新時間:2025-12-19      點擊次數:266

X射線熒光分析儀(XRF)是一種基于X射線熒光光譜法的元素分析儀器,廣泛應用于地質勘探、材料檢測、環境監測等領域,可實現對樣品中多種元素的快速定性與定量分析。其核心原理是利用激發源產生的高能X射線轟擊樣品,使樣品中原子的內層電子發生躍遷,進而輻射出特征X射線(熒光X射線),通過檢測特征X射線的波長(或能量)與強度確定元素種類及含量。

具體過程分為三步:一是激發,X射線管產生的初級X射線光子撞擊樣品原子,將內層(如K層、L層)電子擊出,形成電子空位;二是躍遷,原子外層電子自發躍遷至內層空位,以釋放能量達到穩定狀態;三是熒光輻射,躍遷過程中釋放的能量以X射線光子形式輻射,即熒光X射線,其能量等于內外層電子的能級差,具有元素特異性。

核心相關公式包括:1. 莫塞萊定律,用于表征特征X射線波長與元素原子序數的關系,表達式為√(1/λ) = K(Z - σ),其中λ為特征X射線波長,Z為元素原子序數,K為與能級相關的常數,σ為屏蔽常數;2. 熒光強度定量公式,I = k·c^n,其中I為熒光X射線強度,k為與儀器參數、元素激發效率相關的常數,c為樣品中目標元素含量,n為校正系數(理想條件下n≈1),該公式是定量分析的基礎,實際應用中需通過標樣校準消除基體效應影響。


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